ald裝置是什麼

品牌型號：愛麗達ALD1798-1

ALD裝置指的是原子層沉積（Atomic Layer Deposition, ALD）裝置，是一種用於製備薄膜材料的高階化學氣相沉積技術裝置。ALD裝置是一種高精度、大批量、均勻薄膜材料製備技術，在電子器件奈米科技等領域有重要應用，特別是在化學氣相沉積過程中，它可以製備出均勻厚度的薄膜。ALD裝置可用於生產半導體晶片、薄膜電池、微電子裝置以及光電子器件等，廣泛應用於先進的電子、光電子和奈米技術領域。

ALD裝置的核心是能夠控制材料成分、厚度和質量的反應室，使用膠體合成、化學汽相沉積、物理汽相沉積等方法，利用反應室中固體、氣體或液體等在一個迴圈體系中交替進行不同的單層化學反應，在表面形成單層分子，逐步沉積至所需的厚度，從而成為一層完整、均勻、緻密的薄膜材料。ALD裝置可以製備出具有特定表面特性、電學、光學和力學等性質的薄膜材料，使得其應用範圍更加廣泛。

ALD技術涉及到在沉積過程中控制材料的一層一層生成，使薄膜均勻、緻密且具有精確的厚度，成為許多領域材料製備中的重要技術之一。除了應用於先進的電子、光電子和奈米技術領域之外，在生物醫學和綠色能源等領域也得到了廣泛的應用。